布魯克推出手持LIBS新品EOS 500

[導讀] 在測量某些元素和某些類型的合金時，每種技術都有各自的優(you) 勢。HH-LIBS適合快速測量低原子序數的元素如堿性(Li、Na等)和堿土金屬(Be、Mg、Si等);但是並不適合測量高原子序數的元素如耐火材料元素(Nb、Mo、 W等)。另一方麵，HH-XRF適合於(yu) 測量高原子序數的元素，但不適合測量低原子序數的元素如Mg、Al、Si;這使得HH-LIBS成為(wei) Mg、Al、Ti 合金等輕合金檢測的更可取技術。

　　2015年10月1日，布魯克推出新的EOS 500手持激光誘導擊穿光譜儀(yi) (HH-LIBS)。EOS 500是專(zhuan) 為(wei) Li、Mg、Al 、Si輕元素合金的快速化學分析所設計。速度、精度和重複性等方麵，EOS 500有著自己的優(you) 勢。與(yu) 手持式X射線光譜儀(yi) 相比，EOS 500的分析速度大約快10倍。

　　EOS 500適合於(yu) 質量控製(QA)、金屬加工和材料可靠性鑒定(PMI)，是廢品回收相關(guan) 行業(ye) 對耐久性的要求。堅固的設計確保了EOS 500能夠承受在幾乎所有的環境下進行現場操作，包括潮濕和灰塵的條件。此外，EOS 500有一個(ge) *的氣體(ti) 光學護罩，在光學係統的前麵創建了一個(ge) 連續的氣體(ti) 保護罩，防止灰塵積聚並允許EOS 500在zui嚴(yan) 苛的環境中運作。

　　EOS 500使用專(zhuan) 有的低背景激光消融原子發射光譜1064納米波長激光。傳(chuan) 統LIBS係統一般利用高能、低頻激光等離子體(ti) 發生器，導致高背景噪音、尤其是在頻譜的低端。布魯克專(zhuan) 有的1064納米激光能夠產(chan) 生強烈的原子發射信號，同時不會(hui) 產(chan) 生高背景噪音，因此不再需要複雜的澆注係統。利用這種*的設計，布魯克的 EOS 500可以很容易地在幾秒鍾內(nei) 、分析< 0.1%濃度水平、具有挑戰性的元素，如Si、Mg。

　　多探頭的設計允許EOS 500覆蓋從(cong) 170納米到720納米的較長波長範圍，同時在複雜的金屬鈦基體(ti) 下，保持傑出的分辨率。這種較長的波長範圍允許檢測元素，如Li、Be、Cs等。此外，廣泛的波長範圍還允許EOS 500選擇更加合適的波長從(cong) 而獲得更好的準確性。

　　“激光技術的進步使LIBS的小型化和便攜性成為(wei) 可能，如今我們(men) 已經成功的在EOS 500上完成了商業(ye) 化，"布魯克納米分析集團HMP業(ye) 務部門總John Landefeld評論。“布魯克迅速提供這個(ge) 新的手持係統給我們(men) 的客戶，使他們(men) 能夠更快、更有經濟效益的工作。在金屬行業(ye) 中，作為(wei) 手持式X射線光譜儀(yi) 互補技術的LIBS分析占有重要的位置。"

　　在測量某些元素和某些類型的合金時，每種技術都有各自的優(you) 勢。HH-LIBS適合快速測量低原子序數的元素如堿性(Li、Na等)和堿土金屬(Be、Mg、Si等);但是並不適合測量高原子序數的元素如耐火材料元素(Nb、Mo、 W等)。另一方麵，HH-XRF適合於(yu) 測量高原子序數的元素，但不適合測量低原子序數的元素如Mg、Al、Si;這使得HH-LIBS成為(wei) Mg、Al、Ti 合金等輕合金檢測的更可取技術，而HH-XRF是測量不鏽鋼和高溫合金等的更優(you) 技術。金屬行業(ye) 的客戶現在可以根據具體(ti) 有應用選擇的手持測量工具。

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