實驗室型等離子清洗機

CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(you) 化的腔體(ti) 尺寸，使得處理樣品更大，適用範圍更廣。 產(chan) 品性能穩定，操作簡單方便，易維護。

應用領域：

等離子清洗設備廣泛應用於(yu) 材料學、微電子、半導體(ti) 、線 路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫學等領域，主要用 於(yu) 材料表麵進行清洗、改性、刻蝕等目的。

 產(chan) 品特點：

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界麵，自動控製監測工藝參數狀態，20 個(ge) 配方程序，工藝數據可存儲(chu) 追溯。

◆  PLC 控製整個(ge) 清洗過程，手動、自動兩(liang) 種工作模式。

◆  用美國德威爾（Dwyer）氣體(ti) 浮子流量計或質量流量計  (CPC-FM)，可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體(ti) ，氣體(ti) 控製準確。

◆  氣體(ti) 返填吹掃，HEPA 高效過濾，防止二次汙染。

◆  316 不鏽鋼、石英真空艙可選擇，全真空管路係統采用316 不鏽鋼材質，耐腐蝕無汙染。

◆  采用 60 度傾(qing) 角操作麵板設計，符合人體(ti) 功能學，操作方 便，界麵友好。

◆  上控製下艙體(ti) 結構設計，結構緊湊，占地空間小。

◆  內(nei) 凹式前麵板設計，有效保護流量計和艙門不易損壞。

◆  處理快速高效均勻，無汙染，工藝重複性好。

◆  樣品處理溫度低，無熱損傷(shang) 和熱氧化。

◆  安全保護，艙門打開，自動關(guan) 閉電源。

技術參數