實驗室型等離子清洗機高精度

CIF推出全新一代 CPC-G係列實驗室型等離子體(ti) 清洗設備， 傳(chuan) 統等離子體(ti) 清洗設備設計理念。具有較大的腔體(ti) 尺寸和有效樣 品處理麵積， 使用成本低， 性價(jia) 比高， 處理快速高效， 特別適合於(yu) 大學， 科研院所和光電企業(ye) 實驗室小批量中試生產(chan) 。

產(chan) 品特點：

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界麵，自動控製監測工藝參數狀態，20 個(ge) 配方程序，工藝數據可存儲(chu) 追溯。

◆  PLC 工控機控製整個(ge) 清洗過程，手動、自動兩(liang) 種工作模式。

◆  石英真空艙，真空管路係統采用 316 不鏽鋼材質，耐腐蝕無汙染。

◆  采用質量流量計，實現對氣體(ti) 輸入精準控製，改變傳(chuan) 統浮子流量計控製氣體(ti) 流量不準確問題。

◆  HEPA 高效過濾，氣體(ti) 返填吹掃，防止二次汙染。

◆  60 度傾(qing) 角操作界麵設計，符合人體(ti) 功能學，操作方便，界麵友好。

◆  頂置真空艙，上開蓋設計，下壓式鉸鏈開關(guan) 方式，開關(guan) 蓋方便。

◆  采用花灑式多孔進氣方式，改變傳(chuan) 統等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

◆  上置式 360 度自由水平取放樣品托盤設計，符合人體(ti) 功能學，操作更方便。

◆  有效清洗麵積大，可清洗最大直徑 8 吋矽片。

◆  安全保護，艙門打開，自動關(guan) 閉電源。

技術參數：